半导体制造设备要求轴承同時具备真空相容性、奈米級精度、无尘室適用性与极高的可靠性。
晶圓蚀刻、薄膜沉积与光刻设备均在高真空腔体中运作。轴承材料与潤滑劑必須具备极低的揮發性(low outgassing),防止氣体釋放污染制程环境。
EUV/DUV 光刻机台的晶圓定位平台需要奈米級重复定位精度,任何微小振动都可能导致线宽異常。精密轴承的 NRRO(非重复性振动)控制是系統精度的基礎。
半导体无尘室对懸浮顆粒有嚴格限制。晶圓傳送机器手臂的薄斷面轴承需採用低顆粒排放设計,避免轴承磨損产生的顆粒污染晶圓表面。
半导体设备資本支出极高,計劃外停机的損失不僅是维修費用,更包含整條生产线的停产損失。精心设計的轴承系統可达到 40,000 小時以上的連續无故障运行。
myonic 提供针对真空环境、无尘室与高精度半导体设备的專用微型轴承方案,涵蓋材料选擇、潤滑设計与尺寸优化的完整解決方案。
專為半导体制造真空腔体设計的轴承,採用低揮發材料与真空相容潤滑方案。銀(Ag)塗层或二硫化鉬(MoS₂)固体潤滑適用于超高真空环境,PFPE 真空脂適用于中等真空环境。
氮化矽(Si₃N₄)陶瓷球轴承提供更低的顆粒排放、更好的电絕緣性与更长的寿命,特別適合无尘室环境中的晶圓傳送机器手臂与 CMP 化學机械研磨设备。
以下展示微型轴承在半导体制造设备中的典型应用场景与技术要点。
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