半導體製造設備要求軸承同時具備真空相容性、奈米級精度、無塵室適用性與極高的可靠性。
晶圓蝕刻、薄膜沉積與光刻設備均在高真空腔體中運作。軸承材料與潤滑劑必須具備極低的揮發性(low outgassing),防止氣體釋放污染製程環境。
EUV/DUV 光刻機台的晶圓定位平台需要奈米級重複定位精度,任何微小振動都可能導致線寬異常。精密軸承的 NRRO(非重複性振動)控制是系統精度的基礎。
半導體無塵室對懸浮顆粒有嚴格限制。晶圓傳送機器手臂的薄斷面軸承需採用低顆粒排放設計,避免軸承磨損產生的顆粒污染晶圓表面。
半導體設備資本支出極高,計劃外停機的損失不僅是維修費用,更包含整條生產線的停產損失。精心設計的軸承系統可達到 40,000 小時以上的連續無故障運行。
myonic 提供針對真空環境、無塵室與高精度半導體設備的專用微型軸承方案,涵蓋材料選擇、潤滑設計與尺寸優化的完整解決方案。
專為半導體製造真空腔體設計的軸承,採用低揮發材料與真空相容潤滑方案。銀(Ag)塗層或二硫化鉬(MoS₂)固體潤滑適用於超高真空環境,PFPE 真空脂適用於中等真空環境。
氮化矽(Si₃N₄)陶瓷球軸承提供更低的顆粒排放、更好的電絕緣性與更長的壽命,特別適合無塵室環境中的晶圓傳送機器手臂與 CMP 化學機械研磨設備。
以下展示微型軸承在半導體製造設備中的典型應用場景與技術要點。
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